溅射造句

“溅射”的解释

溅射[jiàn shè] 溅射 溅射对于远程有弹道英雄就像分裂斩对于近战英雄，它和分裂斩有相似也有不同的地方。最大的不同在于AoE在弹道击到的目标处决定，而不是分裂斩由攻击者站立的地方确定。目前版本有一个英雄、一种召唤单位和一种野怪有这种攻击类型。他们是：龙骑士（2、3级变身为龙后）、暗影萨满的蛇帐和黑龙。

用“溅射”造句

1、 采用磁控溅射方法制备金属锑薄膜，并把它作为锂离子二次电池负极进行研究。

2、 这是溅射离子簇质谱中继“幻数”结构的另一个重要性质。

3、 研究结果表明，磁控溅射制备的碳氟膜为非晶结构。

4、 本文主要论述基板员偏压与铜基体磁控溅射离子镀铝膜的关系。

5、 溅射原子发射的角分布概率和溅射花样与高能溅射相类似。

6、 所述的合金组合物优选形成为用于薄膜应用领域的溅射靶。

7、 在双元靶严格解的基础上，证明了泽优溅射与原子的半径大小无关。

8、 现在反应溅射法已被广泛应用于切削刀具、成型工具、注射模具和诸如冲头和冲模之类的通用器具，以增强其耐磨性和使用寿命。

9、 研究了用铟锡合金靶直流磁控反应溅射制备ITO透明号电膜。

10、 为改善射频溅射法制备的防水透湿涂层的外观和拒水性，对涤纶织物基底上的溅射氟碳高分子膜的泛黄问题进行了研究。

11、 过高的溅射功率使薄膜以非晶态的形式存在.

12、 它们拍发的大量导弹可以造成不可思议的溅射伤害.

13、 三极反应溅射具有设备简单，工艺简便，镀层致密等特点。

14、 用磁控溅射低温沉积镀膜技术制做锰铜薄膜,能够保持薄膜中锰、铜、镍成份的相对稳定和锰铜合金正六面三元固溶体金相结构的特性.

15、 也可以单独作为磁控溅射或多弧离子镀膜机使用。

16、 反应磁控溅射广泛应用于制备光学薄膜.

17、 高Z材料因其高熔点和低溅射率近年来受到越来越多的关注，但是难熔材料的脆性等问题仍然是这类材料应用的一大障碍。

18、 本文将主要叙述等离子溅射镀膜的原理与方法,并且简单介绍磁控管溅射仪和锇等离子镀膜仪等.

19、 在不同条件下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。

20、 采用氢离子溅射和X射线光电子能谱相结合的方法，检测焦磷酸盐镀铜层和铁基体界面区含氧量的变化，证明了氧化层的存在。

21、 应用TRIM程序模拟了离子在氚钛靶上的溅射产额。

22、 射频溅射沉积的薄膜均匀性和致密性要优于直流溅射沉积的薄膜。

23、 采用磁控射频溅射法制备光波导用玻璃薄膜。

24、 方法：用电子束蒸发和射频磁控溅射两种技术制备了天然HA薄膜。

25、 春雨啊，哗哗地下，雨珠落在湖面上，像珍珠落在玉盘里四面溅射；雨珠落在干土上，地皮上陷下一个小坑，像草原姑娘脸上的笑靥。雨好牧草就好，牧草好牲口就好，牲口好牧民的生活就好。

26、 首先提出真空管道自体真空镀膜新概念，采用特殊的阴极靶结构设计成功的解决了长管道内表面直流溅射镀膜的难题。

27、 老实说,狂战斧挺好用的,它可以带来相当可观的攻击加成,恢复能力,并且它还有溅射效果.

28、 真空室内的气体等离子体可由热灯丝或射频放电产生，4另外还配置了4个金属等离子体源、两套磁控溅射靶和冷却靶台。

29、 在纳晶敏化太阳能电池中，载铂对电极的制备通常有电沉积、溅射和热解等方法。

30、 低溅射功率下，与键角畸变有关的结构无序是导致光学带隙变窄的主要因素。

31、 枪是一种先进的真空溅射镀膜器件，可用于进行多种真空镀膜工艺。

32、 辉光光谱定量转化所得深度结果与表面形貌仪刚定相应溅射坑的深度结果对比发现，本方法定量转化深度结果准确可靠。

33、 用射频反应溅射法制备出BCN薄膜。

34、 脉冲溅射是一种新型的、用于消除直流反应溅射中异常放电的技术。

35、 以磁控溅射沉积方法，采用循环氩离子轰击镀和未循环轰击镀工艺在金属*上制备了铝薄膜。

36、 磁控溅射离子镀铝膜不是简单的单质外接铝膜，而是铜和铝组成的合金膜。

37、 对于反应溅射，可通过连续改变反应气体流量制得化学成分比连续变化的梯度薄膜。

38、 在不同的衬底温度下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。

39、 离化团束的溅射产额比之单体离子束高100倍以上。

40、 磁控溅射离子镀铝膜不是简单的单质外接铝膜，而是铝和铁组成的合金膜。

41、 一是因畸变层与非畸变层的扩散系数不同，结果由扩散导致交界区出现原子富集；二是离子轰击的溅射作用和溅射衰减效应使得出现内层的浓度峰。

42、 本文利用正交实验方法，对非平衡磁控溅射技术制备无氢DLC膜增透膜进行了研究，得到了影响薄膜光学性能的主要因素和最佳的制备工艺。

43、 利用磁控射频溅射技术制备了ITO薄膜。

44、 采用磁控溅射法制备锰铜薄膜,溅射和真空蒸发法制备镱薄膜.

45、 在离子束溅射镀膜机的膜厚控制系统的研究中，由于采用了现代检测手段，使测量精度大大提高。

46、 通过磁控反应溅射，在玻璃基底上制备了不同溅射温度下的氧化钛薄膜。

47、 反应溅射中氧分压对薄膜的影响也很大，较高的氧气分压有助于较好结晶的二氧化钛薄膜的生成。

48、 用直流反应磁控溅射法制备了氧化镍电致变色薄膜,采用XRD和TEM对所制的薄膜结构进行了研究.

49、 并且随着阴极温度升高,阴极溅射率也随之增加.

50、 用射频溅射的方法制备得的钆钴膜具有垂直于膜面的单轴各向异性。